Автор: Коллектив авторов
Название: Фундаментальные основы процессов химического осаждения пленок и структур для наноэлектроники
Категория: Наука, Образование/Техническая литература
Издательство: ФГУП «Издательство СО РАН»
ISBN: ФГУП «Издательство СО РАН»
Год выпуска: 2013
Серия: Интеграционные проекты СО РАН
Тип: book
Описание: В монографии представлены результаты развития процессов химического осаждения из газовой фазы металлических и диэлектрических пленок с
Доступна для скачивания после оплаты
